
Clinique Beyond Perfecting Makeup + Concealer CN 02 Breeze
Sammenligning av produkter

Produktinformasjon
Clinique Beyond Perfecting Makeup + Concealer CN 02 Breeze
Oppdag Clinique Beyond Perfecting Makeup + Concealer CN 02 Breeze, en innovativ foundation og concealer i ett! Med denne produkten får du et naturlig, feilfritt utseende som varer hele dagen, perfekt for deg som ønsker å se strålende ut uten å bruke timevis på sminke.
Naturlig og Fuktighetsgivende
Denne sminken er ikke bare fantastisk for dekning, men også skånsom mot huden. Den fuktighetsgivende formelen sørger for at huden kan puste og føles behagelig hele dagen. Ingen flere bekymringer for tette porer eller ubehag, selv med en full dag foran deg!
Imot Svette og Fuktighet
En av de beste egenskapene med Beyond Perfecting Makeup er dens evne til å motstå svette og fuktighet. Uansett om du er på jobb, trener eller bare njuter en varm sommerdag, vil denne formelen holde deg fresh.
Rik Pigmentering for Perfekt Dekning
Med et rikt pigmentnivå gir denne foundationen en feilfri look fra første påføring. Det er normalt at nyansene kan se litt mørkere ut ved påføring, men når produkten har tørket og smeltet inn i huden, vil du oppdage en perfekt og naturlig finish.
Effektiv og Drøy i Bruk
- Foundation og concealer i ett
- Holder hele dagen
- Fuktighetsgivende og hudvennlig
- Motstår svette og fuktighet
- Rik pigmentering for feilfri dekning
Så hvorfor vente? Gi deg selv muligheten til å oppleve en makeup som fungerer hardere for deg. Med Clinique Beyond Perfecting Makeup + Concealer CN 02 Breeze får du ikke bare en makeup, men en skjønnhetsopplevelse uten sidestykke!
Topplisten: Clinique Concealer
Spesifikasjon
| Produktnavn | Clinique Beyond Perfecting Makeup + Concealer CN 02 Breeze |
| Merke | Clinique |
Pris og prishistorikk
Akkurat nå er 405,- den billigste prisen for Clinique Beyond Perfecting Makeup + Concealer CN 02 Breeze blant 1 butikker hos Prisradar. Sjekk også vår topp 5-rangering av beste concealer for å være sikker på at du gjør det beste kjøpet.











