Steinberg Systems LAF benk luftstrøm 0,2 0,6 m/s UV lampe 20 W 10031059

Steinberg Systems LAF-benk - Din partner for ultrarene arbeidsforhold

Ønsker du å sikre et helt rent arbeidsområde i laboratoriet eller produksjonslokalet? Da er Steinberg Systems LAF-benk det perfekte valget for deg! Med en effektiv luftstrøm på 0,2 - 0,6 m/s og en kraftig UV-lampe på 20 W, sørger denne arbeidsstasjonen for at både overflater og luft er fri for skadelige påvirkninger.

Fremragende design for høyeste standarder

Steinberg har designet denne laminære luftstrømsbenken med fokus på funksjonalitet og sikkerhet. Den glatte overflaten i rustfritt stål gir ikke bare en moderne estetikk, men sikrer også enkel rengjøring og vedlikehold. Den innebygde luftstrømmen fungerer som et beskyttende skjold, og stopper bakterier og partikler fra å forurense det sensitive arbeidet ditt.

• Innvendige mål: 92 x 58 x 55 cm - Ideell for cellekulturer og sensitive materialer
• HEPA-filter: Sørger for at luften som sirkulerer er renset for skadelige partikler
• To stikkontakter: Plassert på bakveggen, praktisk for tilkobling av utstyr uten å bryte innkapslingen
• Belyst arbeidsområde: To 16 W lysrør gir optimalt lys for presisjonsarbeid

Optimaliser arbeidsflyten din

Er du i gang med forskningsprosjekter eller produksjon av halvledere? Denne LAF-benken gjør det enkelt å jobbe med sensitive stoffer og opprettholde strenge renhetsstandarder. Rengjøring blir en enkel oppgave, slik at du kan fokusere på det som virkelig betyr noe - arbeidet ditt!

Så er du klar til å ta steget mot et renere og tryggere arbeidsmiljø? Velg Steinberg Systems LAF-benk for å sikre at dine arbeidsforhold alltid er på topp!